氧化鎵 Gallium(III) oxide
結(jié)構(gòu)式
| 物競編號 | 0L7L |
|---|---|
| 分子式 | Ga2O3 |
| 分子量 | 187.44 |
| 標(biāo)簽 | 三氧化二鎵, Gallium(III) trioxide, Digallium trioxide, 高純度化合物 |
編號系統(tǒng)
CAS號：12024-21-4
MDL號：MFCD00011020
EINECS號：234-691-7
RTECS號：LW9650000
BRN號：暫無
PubChem號：24846434
物性數(shù)據(jù)
1. 性狀：α-Ga2O3為六方晶型，β-Ga2O3屬于單斜晶型。
2. 密度（g/mL,25℃）：未確定
3. 相對蒸汽密度（g/mL,空氣=1）：未確定
4. 熔點（oC）：1740
5. 沸點（oC,常壓）：未確定
6. 沸點（oC，1mmHg）：未確定
7. 折射率：未確定
8. 閃點（oC）：未確定
9. 比旋光度（o）：未確定
10. 自燃點或引燃溫度（oC）：未確定
11. 蒸氣壓（20oC）：未確定
12. 飽和蒸氣壓（kPa,60oC）：未確定
13. 燃燒熱（KJ/mol）：未確定
14. 臨界溫度（oC）：未確定
15. 臨界壓力（KPa）：未確定
16. 油水（辛醇/水）分配系數(shù)的對數(shù)值：未確定
17. 爆炸上限（%,V/V）：未確定
18. 爆炸下限（%,V/V）：未確定
19. 溶解性：不溶于水。微溶于熱酸或堿溶液。
毒理學(xué)數(shù)據(jù)
生態(tài)學(xué)數(shù)據(jù)
通常對水體是稍微有害的，不要將未稀釋或大量產(chǎn)品接觸地下水，水道或污水系統(tǒng)，未經(jīng)政府許可勿將材料排入周圍環(huán)境。
分子結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)
暫無
計算化學(xué)數(shù)據(jù)
1.疏水參數(shù)計算參考值（XlogP）:無
2.氫鍵供體數(shù)量:0
3.氫鍵受體數(shù)量:3
4.可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:0
5.互變異構(gòu)體數(shù)量:無
6.拓?fù)浞肿訕O性表面積43.4
7.重原子數(shù)量:5
8.表面電荷:0
9.復(fù)雜度:34.2
10.同位素原子數(shù)量:0
11.確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
12.不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
13.確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
14.不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
15.共價鍵單元數(shù)量:1
性質(zhì)與穩(wěn)定性
常溫常壓下穩(wěn)定
避免光，明火，高溫
是極難揮發(fā)的氧化物。另外，由于灼燒強度不同，對酸的溶解度也有差別，在低溫灼燒的產(chǎn)品雖然可溶解于酸、堿，但高溫灼燒的產(chǎn)品就是不溶的。有機鎵化合物的熱分解雖然也可生成三氧化二鎵，但必須注意未燃燒碳的還原作用，不要生成揮發(fā)性低級氧化物Ga2O，和濾紙一起灼燒時，也同樣要注意。
貯存方法
貯存于陰涼、干燥的庫房內(nèi)
合成方法
1.向三氯化鎵GaCl3的熱水溶液中加NaHCO3的高濃熱水溶液，煮沸到鎵的氫氧化物全部沉淀出來為止。用熱水洗滌沉淀至沒有Cl-為止，在600℃以上煅燒則得到β-Ga2O3。殘留NH4Cl時，在250℃就和Ga2O3反應(yīng)，生成揮發(fā)性GaCl3。
2.這是高純Ga2O3的制法。以高純金屬Ga為陽極，溶解于5%～20%H2SO4溶液里，向溶液加氨水，冷卻，將Ga(NH4)(SO4)2反復(fù)結(jié)晶，在105℃干燥，在過量氧的條件下在800℃灼燒2h，則得到純度為9999%～99.9999%的產(chǎn)品。
3.稱取1kg99.9999%的高純鎵放入三頸燒瓶中，加入高純硝酸，使鎵全部溶解，然后過濾，濾液倒入三頸燒瓶中，移至電爐上蒸發(fā)（在通風(fēng)櫥中進(jìn)行），濃縮到接近結(jié)晶時，將溶液移置于大號蒸發(fā)皿中蒸發(fā)至干。將蒸干的Ｇａ（ＮＯ３）３放在馬弗爐中進(jìn)行灼燒，溫度控制在550℃，灼燒５ｈ，待冷卻后取出成品，得１．２ｋｇ高純氧化鎵。
用途
用作高純分析試劑、用于電子工業(yè)半導(dǎo)體材料制備。
用作高純分析試劑、半導(dǎo)體材料。
安全信息
危險運輸編碼：暫無
危險品標(biāo)志：暫無
安全標(biāo)識：S24/25
危險標(biāo)識：暫無
文獻(xiàn)
暫無
備注
暫無
表征圖譜
統(tǒng)計數(shù)據(jù)
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